Research of the Binding of an Argon Arc to the Cathode in a DC Plasma Torch

M. Kh. Gadzhiev; Гаджиев М. Х.; M. A. Sargsyan; Саргсян М. А.; A. S. Tyuftyaev; Тюфтяев А. С.; Z. G. Karchugaeva; Карчугаева З. Г.; D. V. Tereshonok; Терешонок Д. В.

doi:10.31857/S0367292123700233

Исследования привязки аргоновой дуги к катоду плазмотрона постоянного тока

Авторы: Гаджиев М.Х.¹, Саргсян М.А.¹, Тюфтяев А.С.¹, Карчугаева З.Г.¹, Терешонок Д.В.¹
Учреждения:
1. Объединенный институт высоких температур РАН
Выпуск: Том 49, № 5 (2023)
Страницы: 476-479
Раздел: НИЗКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ПЛАЗМА
URL: https://gynecology.orscience.ru/0367-2921/article/view/668541
DOI: https://doi.org/10.31857/S0367292123700233
EDN: https://elibrary.ru/VFYGOK
ID: 668541

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ
Доступ закрыт

Доступ предоставлен
Доступ закрыт

Доступ платный или только для подписчиков

Аннотация
Об авторах
Список литературы
Дополнительные файлы
Статистика

Аннотация

Проведены эксперименты по исследованию стационарной привязки аргоновой дуги атмосферного давления к поверхности чистого, торированного и лантанированного вольфрама. Спектральными методами получены температуры и концентрации электронов в плазме положительного столба вблизи катода при токе дуги 200 А и расходе плазмообразующего газа 1.5 г/с, средние значения которых T_e ~ 2.6 эВ для чистого вольфрама, T_e ~ 2 эВ для торированного и лантанированного с n_e ~ 10¹⁷ см^–3. При этом наименьшей температурой рабочей поверхности обладает катод со вставкой из лантанированного вольфрама (3100 К) из-за меньшей эффективной работы выхода, когда как для торированного и чистого вольфрама 3300 К и 3800 К соответственно. При этом установлено, что при токе 200 А вершина поверхности чистого вольфрама находится в жидкой фазе в отличие от торированного и лантанированного вольфрама.

Ключевые слова

атмосферное давление, низкотемпературная плазма

Список литературы

Коротеев А.С., Миронов В.М., Свирчук Ю.С. Плазмотроны: конструкции, характеристики, расчет. М.: Машиностроение, 1993. С. 296.
Жуков М.Ф., Засыпкин И.М., Тимошевский А.Н., Михайлов Б.И., Десятков Г.А. Электродуговые генераторы термической плазмы. Низкотемпературная плазма. Т. 17. Новосибирск: Наука, СП РАН, 1999. С. 712.
Цыдыпов Б.Д. // Теплофизика и аэромеханика. 2007. Т. 14. С. 269.
Полищук В.П. // ТВТ. 2005. Т. 43. С. 11.
Benilov M.S., Carpaij M., Cunha M.D. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2006. V. 39. P. 2124.
Ortega D., Sillero Marin J.A., Munoz-Serrano E., Casado E. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2009. V. 42. P. 085202.
Gleizes A. // Plasma Chem. Plasma Process. 2015. V. 35. P. 455.
Murphy A.B. // Plasma Chem. Plasma Process. 2015. V. 35. P. 471.
Benilov M.S. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2008. V. 41. P. 144001.
Райзер Ю.П. Физика газового разряда. 3-е изд. М., 2009. С. 736.
Haidar J., Farmer A.J.D. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1994. V. 27. P. 555.
Sillero J.A., Ortega D., Munoz-Serrano E., Casado E. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2010. V. 43. P. 185204.
Gadzhiev M.Kh., Sargsyan M.A., Tereshonok D.V., Tyuftyaev A.S. // EPL. 2015. V. 111. P. 25001.
Пустогаров А.В., Колесниченко А.Н., Гаврюшенко Б.С., Захаркин Р.Я., Драган В.Д. // ТВТ. 1973. Т. 11. С. 174.
Haidar J., Farmer A.J.D. // Rev. Sci. Instrum. 1993. V. 64. P. 542.
Haidar J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1995. V. 28. P. 2494.
Исакаев Э.Х., Тюфтяев А.С., Гаджиев М.Х. // Физика и химия обработки материалов. 2016. № 3. С. 27.
Гаджиев М.Х., Куликов Ю.М., Сон Э.Е., Тюфтя-ев А.С., Саргсян М.А., Юсупов Д.И. // ТВТ. 2020. Т. 58. С. 15.
Konjevic N., Lesage A., Fuhr J.R., Wiese W.L. // J. Phys. Chem. Ref. Data. 2002. V. 31. P. 819.
Goryachev S.V., Isakaev E.H., Myasnikov M.I., Chin-nov V.F. // High Temperatures. 2008. V. 46. P. 1.
Cagran C., Brunner C., Seifteru A., Pottlacher G. // High Temperatures–High Pressures. 2002. V. 34 (6). P. 669.
Cagran C., Pottlacher G., Rink M., Bauer W. // Internat. J. Thermophysics. 2005. V. 26 (4). P. 1001.
Gadzhiev M.Kh., Sargsyan M.A., Tereshonok D.V., Tyuf-tyaev A.S. // Europ. Phys. Lett. 2015. V. 111. P. 25001.
Gadzhiev M.Kh., Sargsyan M.A., Tereshonok D.V., Tyuf-tyaev A.S. // Europ. Phys. Lett. 2016. V. 115. P. 35002.
Sargsyan M.A., Tereshonok D.V., Valyano G.E., Scherbakov V.V., Konovalov P.A., Gadzhiev M.Kh. // Phys. Plasmas. 2020. V. 27. P. 023506.