Ядерно-сканирующий микрозонд в исследовании эпислоев карбида кремния

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Обсуждаются результаты исследования поверхностей образцов гомоэпитаксиальных слоев 4H-SiC методом ядерно-сканирующего микрозонда в режиме обратного резерфордовского рассеяния. Анализ состояния поверхностей образцов, и режимов синтеза показал, что увеличение содержания кремния в верхних слоях некоторых образцов предшествует формированию высокодефектных слоев 4H-SiC.

Об авторах

М. Э. Бузоверя

Федеральное государственное унитарное предприятие Российский федеральный ядерный центр – Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики

Email: dismos51@gmail.com
Россия, Саров

И. А. Карпов

Федеральное государственное унитарное предприятие Российский федеральный ядерный центр – Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики

Email: dismos51@gmail.com
Россия, Саров

А. Ю. Архипов

Федеральное государственное унитарное предприятие Российский федеральный ядерный центр – Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики

Email: dismos51@gmail.com
Россия, Саров

Д. А. Скворцов

Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Национальный исследовательский Мордовский государственный университет имени Н. П. Огарёва

Автор, ответственный за переписку.
Email: dismos51@gmail.com

Научно-исследовательская лаборатория «Синтез и обработка монокристаллов карбида кремния»

Россия, Саранск

В. А. Неверов

Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Национальный исследовательский Мордовский государственный университет имени Н. П. Огарёва

Email: dismos51@gmail.com

Научно-исследовательская лаборатория «Синтез и обработка монокристаллов карбида кремния»

Россия, Саранск

Б. Ф. Мамин

Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Национальный исследовательский Мордовский государственный университет имени Н. П. Огарёва

Email: dismos51@gmail.com

Научно-исследовательская лаборатория «Синтез и обработка монокристаллов карбида кремния»

Россия, Саранск

Список литературы

  1. Лучинин В.В., Таиров Ю.М. // Изв. вузов. Электроника. 2011. № 6(92). С. 3.
  2. Афанасьев А.В., Ильин В.А., Лучинин В.В., Решанов С.А. // Изв. вузов. Электроника. 2020. Т. 25. № 6. С. 483.
  3. Авров Д.Д., Лебедев А.О., Таиров Ю.М. // Изв. вузов. Электроника. 2015. Т. 20. № 3. С. 225.
  4. Давыдов С.Ю., Лебедев А.А., Савкина Н.С., Волкова А.А. // ЖТФ. 2005. Т. 75. № 4. С. 114; Davydov S.Yu., Lebedev A.A., Savkina N.S., Volkova A.A. // Tech. Phys. 2005. V. 50. No. 4. P. 503.
  5. Schöler M., Schuh P., Steiner J., Wellmann P.J. // Mat. Sci. Forum. 2019. V. 963. P. 157.
  6. Давыдов С.Ю., Лебедев А.А., Савкина Н.С. и др. // ФТП. 2004. Т. 38. № 2. С. 153.
  7. Гаврилов Г.Е., Бузоверя М.Э., Карпов И.А. и др. // Изв. РАН. Сер. физ. 2022. Т. 86. № 8. С. 1155; Gavrilov G.E., Buzoverya M.E., Karpov I.A. et al. // Bull. Russ. Acad. Sci. Phys. 2022. V. 86. No. 8. P. 956.
  8. Lilov S.K. // Mater. Sci. Engin. B. 1993. V. 21. P. 65.
  9. Vasiliauskas R., Marinova M., Hens P. et al. // Cryst. Growth Des. 2012. V.12. P. 197.
  10. Быков Ю.О., Лебедев А.О., Щеглов М.П. // Неорг. матер. 2020. T. 56. № 9. C. 979.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Российская академия наук, 2024