ТЕХНОЛОГИЯ
| Edição | Título | Arquivo | |
| Volume 52, Nº 2 (2023) | Plasma Parameters and Kinetics of Reactive Ion Etching of SiO2 and Si3N4 in an HBr/Cl2/Ar Mixture |
 (Rus) |
|
| Efremov A., Betelin V., Kwon K. | |||
| Volume 52, Nº 2 (2023) | Investigation of the Optical Properties of Ultrathin Films Based on Metal Silicide |
(Rus) |
|
| Kerimov E. | |||
| Volume 52, Nº 1 (2023) | Параметры газовой фазы и кинетика реактивно-ионного травления SiO2 в плазме CF4/C4F8/Ar/He |
(Rus) |
|
| Ефремов А., Kwon K. | |||
| 1 - 3 de 3 resultados | |||